電漿蝕刻機

PI01

產品功能

適用於太陽能電池製程，對矽晶片之邊緣做蝕刻

產品特色

專利設計之特殊電漿電極

高密度電漿源

處理速度快、產能高、可靠度高

可選擇的指令引數多

設備穩定度高，容易維護

全自動且容易操作

可依客戶需求作更改

應用產業

太陽能電池

太陽能矽晶片邊緣做蝕刻

項目
Size	1270(W)1110(D)2216(H)mm
Chamber	500(W)500(D)500(H)mm
Weight	880kg
Facilities	3Ψ220V60Hz4w, 30A Compressed air：about 6 kg/cm² Reaction gas：about 2 kg/cm²
System control software	PLC touch panel or PC based system controller
Gas flow system	2 mass flow controllers
Vacuum pump	Dry pump
Reactants	O₂, CF₄
Telescopic stage	Easy loading accessory
Cell clamp	Cell stack holder with stacking accessory